硅片真空退火炉 高真空退火炉 晨立电子 科研炉 氧化炉

一、设备结构:
1、操作方式:左(右)手操作方式
2、硅片尺寸:圆形6寸片
3、工艺布局:满足客户工艺要求

4、外形:主机1台，主机架为卧式两管。

5、自动化程度:工控机控制系统自动控制工艺流程
6、送取片方式:手动进出舟。

二、主要技术参数:
1、加热炉管有效口径:满足6英寸硅片。可向下兼容5寸和4寸硅片。
2、工作温度范围:上管:600~1400℃
           下管:200~500℃
3、恒温区长度及精度:600mm，
                  上管:800-1400℃.±0.2℃/24h
                  下管:200-500℃.±0.2℃/24h
4、控制方式:由工控机统一管理工艺
5、气路设置:每管两路气体:氮气100L/min.氩气100L/min。均采用MFC自动控制流量大小。

青岛晨立电子有限公司主要产品：高低温扩散炉、实验炉、共晶炉、烧结炉、加磁炉、高 精 度智能温度控制系统和替代进口的扩散炉炉体等，同时承接各种微电子生产线，进口半导体专 用设备的翻新升级改造及各大专院校科研院所的非标研发定制工作。

 

青岛晨立电子有限公司成立于2009年，是半导体设备及零部件、电子设备及电子元器件生产、研发、销售厂家。为客户提供先 进材料热处理、高 精 度电加热设备及系统集成等全 套解决方案。
主要产品：高低温扩散炉、实验炉、共晶炉、烧结炉、加磁炉、高 精 度智能温度控制系统和替代进口的扩散炉炉体等，同时承接各种微电子生产线，进口半导体专 用设备的翻新升级改造及各大专院校科研院所的非标研发定制工作。
 
公司本着和谐、共赢，以“质量求发展、以诚信为根本、以客户为中心、以用户满意”为较终目标的企业方针，为客户提供优 质的产品，优良的服务。