用途: 高真空退火炉供大规模集成电路、MEMS 生产线用做6"硅片的合金、氧化、退火、烧结、扩散等工艺使用。同时也可下沉工艺,完成4寸wafer 的相应工艺。 一、设备结构: 1、操作方式:左(右)手操作方式 2、硅片尺寸:圆形6寸片 3、工艺布局:满足客户工艺要求 4、自动化程度:工控机控制系统自动控制工艺流程 5、送取片方式:手动进出舟。 6、外形:主机1台,主机架为卧式两管。 二、主要技术参数: 1、加热炉管有效口径:满足6英寸硅片。可向下兼容5寸和4寸硅片。 2、工作温度范围: 200~800℃ 3、恒温区长度及精度: 600mm, 4、控制方式:由工控机统一管理工艺 5、真空度:2*10-4 Pa
青岛晨立电子有限公司成立于2009年,是半导体设备及零部件、电子设备及电子元器件生产、研发、销售厂家。为客户提供先 进材料热处理、高 精 度电加热设备及系统集成等全 套解决方案。 主要产品:高低温扩散炉、实验炉、共晶炉、烧结炉、加磁炉、高 精 度智能温度控制系统和替代进口的扩散炉炉体等,同时承接各种微电子生产线,进口半导体专 用设备的翻新升级改造及各大专院校科研院所的非标研发定制工作。 公司本着和谐、共赢,以“质量求发展、以诚信为根本、以客户为中心、以用户满意”为较终目标的企业方针,为客户提供优 质的产品,优良的服务。