佛山电筒反光杯-锦城镀膜-矿用机车电筒反光杯

佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑 镀膜为主的生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解，我们将为你的产品锦上添花.

真空镀膜之多弧离子镀 ：该装置的优点是阴极电弧源既是蒸发源和离化源 ，又是加热源和轰击源，不用熔池，弧源可任意方位，多源布置。离化率高，注塑电筒反光杯，一般可达60%-80%蒸发沉积速率快， 入射粒子能量高，沉积膜的质量和附着性能好。可蒸发各种导电材料，金属或合金， 成份不受限制。能进行反应镀膜，缺点是易于产生液滴，组织不致密。

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真空镀膜之磁控溅射镀膜 ：

磁控溅射的基本原理是电子在电场作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞，矿用机车电筒反光杯，若电子具有足够的能量时， 则电离出离子和另一个电子（二次电子）。电子飞向基片，离子在电场作用下加速飞向阴极 （溅射靶） 并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉积在基片上形成薄膜， 二次电子在加速飞向基片时受磁场的洛仑兹力作用以摆线和螺旋线状的复合形式在靶表面作圆周运动。

镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响

靶基距：靶基距是影响成膜速率的重要因素之一，佛山电筒反光杯，随着靶基距增加，被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多，同时等离子体密度也减弱，动能减少，沉积速率降低，但膜层外观较好。靶基距太小，沉积太快，工件温升大，膜层外观差。

靶功率；磁控溅射本身粒子初始动能比较小，电筒反光杯厂家加工，离化率低，电源功率越大，溅射出的粒子的初始能量越大，靶材溅射量也越大，沉积速率越快，膜层容易上厚度和硬度，同时工件温升也大，过高的功率会使沉积速率太快，粒子来不及表面迁移和扩散，易形成阴影效应，膜层会比较疏松，应力较大。

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