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物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
1、从沉积粒子能量(中性原子)来看,加工特种灯具反光杯,真空蒸镀为0.1-1eV,溅射为1-10eV,离子镀为0.1-1eV(此外还有高能中性原子)。
2、从沉积速率来看,真空蒸镀为0.1-70μm/min,溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀),离子镀为0.1-50μm/min。
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真空镀膜:一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。
物理l气相沉积法主要有真空蒸镀、溅射和离子镀。
真空蒸镀:在真空中加热使金属、合金或化合物蒸发,然后凝结在基体表面上的方法叫真空蒸镀。
溅射:溅射是利用高速正离子轰击某一靶材(阴极),使靶材表面原子以一定能量逸出,后在工件表面沉积的过程。
离子镀:离子镀借助于一种惰性气体的辉光放电使欲镀金属或合金蒸发离子化,并在这些荷能离子轰击基体(工件)表面并同时沉积在其上形成镀膜。
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