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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
辉光清洗:对工件施加负偏压,产生辉光放电,利用ya离子轰击工件表面,这种辉光放电清洗作用比较柔和,一般采取由弱到强的轰击清洗顺序,是怕工件太脏时一开始就强轰击,可能产生强烈的打火而损伤工件。
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随着塑料装饰技术发展,一种塑料制品金属化装饰技术随之产生,它是利用塑料基材涂装底漆后,经真空电镀或溅涂,涂装一层金属薄膜层,再涂覆面漆而成。经过涂装的塑料表面,完全闪烁着金属光泽,显出和富丽堂皇的金属品质,根本看不出是塑料制品。塑料的金属化装饰不仅可以节约大量宝贵的金属材料,也大大减轻了制品质量,近年来在化妆品包装瓶和包装盒、汽车车灯、酒瓶包装瓶盖、手机塑料按键、钟表外壳等制造中获得了广泛的认可和应用。
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真空镀膜之磁控溅射镀膜 :
磁控溅射的基本原理是电子在电场作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞,若电子具有足够的能量时, 则电离出离子和另一个电子(二次电子)。电子飞向基片,离子在电场作用下加速飞向阴极 (溅射靶) 并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉积在基片上形成薄膜, 二次电子在加速飞向基片时受磁场的洛仑兹力作用以摆线和螺旋线状的复合形式在靶表面作圆周运动。
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