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镀膜材料或蒸气流入射速度较高,一般磁控溅射及蒸发镀金属原子入射速度均在2000米/秒左右。每炉镀膜时间(金属原子累积入射沉淀时间)一般在15-20分钟左右,生产工程车辆反光杯,磁控溅射视工艺不同有所区别。每炉产能以普通翻盖手机外壳为例约450-800PCS/炉不等,工程车辆反光杯注塑加工,产品大小不同,每炉产能不同。
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真空镀膜机操作程序
21. 如果再想蒸镀一次(为了增加电极金属层厚度):把电流分插塞拨出插入另一个电极分配孔。重复?操作动作。
22. 关闭规管灯丝开关。关闭高压阀(逆时针转手柄)。关闭工件旋转。关闭蒸发。旋转机械泵钮至指向扩散泵位置。
23. 低压阀拉出。钟罩充气。充气一段时间,当没有气.声时,升钟罩。
24. 钨螺旋加热子内加铝丝。PVDF薄膜调换另一面向下 (原下面已镀一层铝膜面向上)。紧固在转动圆盘上。
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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
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