派瑞林涂层的镀膜方式为气相沉积CVD,沉积过程过程主要有三步:
1. 真空130℃条件下固态派瑞林材料升华成气态。
2. 真空680℃条件下,将气态双裂解成活性单体。
3. 真空常温下,气态单体在基体上生长聚合。
上述过程中裂解后的活性单体为纳米级小分子颗粒,单体重新聚合而形成的膜非常致密,有较低的水汽透过率,可起到较好的阻隔水氧的作用。经派瑞林涂敷后的电子产品即便在有腐蚀性的环境中工作,也能够有效的阻隔,真正意义上完成对电子产品的防腐蚀效果。
帕利灵(Parylene)是一族由对二甲基苯合成的热塑性塑料聚合物的通称
帕利灵C在温度300K时太赫兹频段的折射率大约为1.62,4.5K时降低到约1.5141。吸收系数约为数10cm-1量级。帕利灵C的这些特性使之成为硅、锗材质的透镜和窗口的合适的抗反镀膜材料。
聚对二甲苯也叫二氯对二二聚体、对二环二体
聚对二甲苯的物相淀积是在真空腔中实施的,进入气化室时呈颗粒状。以C型聚对二甲苯为标准,温度逐渐升高到150%C,这是二聚体的初始温度。接着,聚对二甲苯被热解使其二聚体裂成单自由基对二(650℃)。在淀积室内(25℃),单体聚集到所有面上,以约5μm/h的速率聚合成C型聚对二甲苯。近研制出一种通过在淀积室改进样品添加装置来直接淀积聚对二甲苯为纳米结构薄膜的工艺。
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