滚筒等离子清洗机 表面处理设备

一、产品原理介绍：  

（1）半导体清洗 光刻胶清洗机KT-S2DQX-C型等离子清洗机属于13.56MHz的射频电源清洗。作为一种精密干法清洗设备，主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。  

（2）该清洗机内置高纯石英仓体，有效容积为500ml，结构为**上的通用的真空石英法兰密封结构。采用了新型的外观结构设计和固态电源技术，使其有效容积增大，不同真空气体环境下容易匹配，且控制频率稳定。  

（3）真空仓门有观察窗，可直观物体的处理过程，其射频电源与控制都组装在一个机箱内，即减少了空间的占用，较便于操作和放置，同时与大型清洗机相比较，从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作，特别适用科学实验样品清洗和教学。  



二、半导体清洗 光刻胶清洗机的优点：  

1.全自动控制使用方便，较长的制程执行时间  

2.操作简易和灵活标准的平台安装  

3.快速实现客户定制高效率——低发热量  

4.使用简易，节省成本多功能**板  

5.高质量、快速的服务和支持直观的液晶显示操作菜单  

6.高纯石英腔体减少样品污染可定时功能，时间较精准  

7.射频屏蔽安全可靠*紧急停止，应对各种突发情况

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三、智能控制滚筒等离子清洗机KT-G1DQX技术参数：



供电电源

AC220V（AC110V可选)

工作电流

整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)

射频电源功率

150W

射频频率

13.56MHz

频率偏移量

＜0.2MHz

特性阻抗

50欧姆，手动匹配

耦合方式

电容耦合

真空度

≤50Pa

腔体材质

高纯石英

腔体容积

Φ100mmX200mm

旋转速度

20转/分钟

气体流量

0—300ml/min

过程控制

手动控制

清洗时间

手0-999秒

外形尺寸

615X390X560mm

重量

56Kg

真空室温度

小于65°C

冷却方式

强制风冷

标配

KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。