紫光源光化学反应器 CY-GHX-B 大容积光化学反应仪 实验室光化学合成反应釜

紫光源光化学反应器 CY-GHX-B 大容积光化学反应仪 实验室光化学合成反应釜

论述了气固相光催化反应器的特点、类型及研究现状。根据反应器的结构，气固相光催化反应器分为固定床和流化床，主要介绍了国外近年来流化床光催化反应器应用于废气处理中的研究进展情况，阐明了新型流化床光催化反应器的研究与设计是光催化氧化法工业化过程中需要解决的关键问题之一，分析了其存在的问题，并对今后的发展方向进行了展望。

随着能源价格的持续上涨和环境污染的日趋严重，半导体光催化污染治理技术近年来日益受到人们的重视 [1]。该技术具有工艺简单、能耗低、**次污染和降解的特点。因为半导体受yi定能量光照射而产生的光生空穴和电子具有很强的氧化性和还原性,可以无选择的将半导体颗粒表面的吸附物氧化还原为ＣＯ2和Ｈ2Ｏ。国内外有关光催化降解水中**污染物的研究已有十余年历史，近几年来，随着对低浓度(μｇ/ｍ3)挥发性**物（VOCs）所带来的空气污染问题的重视，人们认识到气固相光催化处理VOCs的潜在优势，开始了这方面的研究。气固相光催化反应器是光催化过程的**设备，它的设计和应用势必成为气固相光催化研究的主要方向之一。由于流化床具有传质效率高、操作范围宽、易实现工业化等特点，近年来出现了气固相流化床光催化反应器的研究热潮。本文总结了国外近年来废气治理中气固流化床光催化反应器的研制及应用情况，并对其发展趋势进行了展望。

1 气固相光催化反应器的特点
光催化反应器与传统反应器的不同之处在于需要有光源的存在，因此它的设计较加复杂，除了考虑传统的反应器所涉及的如质量传递和混合、反应物和催化剂的接触、流动方式、反应动力学、催化剂的安装、温度的控制等问题外，还要考虑光能在反应器内的传播与均匀分布，因为只有吸收了适当的光子而被的催化剂才具有催化活性。另外，光强的选择也为重要，它对光催化反应的影响随反应物的不同而有所不同。但通常在较低光强下反应速率与光通量呈一级反应，在较高光强下反应速率为半级，即光效率随光强增加而下降。光催化反应器的反应能力受照射光分布和光强的影响这些特性给光反应器的理论分析、实验研究和工业化应用均带来了困难，多相体系中固体催化剂的存在增加了问题的复杂性。
根据相态的不同，光催化反应器可分为气固相光催化反应器与液固相光催化反应器。与液固相相比，气固相光催化反应器通常需要在高气体体积流量下操作[2]，要求有很好的气密性，同时要便于物料的装卸；需要固定化的催化剂，若使用粉末催化剂，只能造成气阻增大，催化剂流失严重或分散不均等不利情况而影响。
整个光催化效果（但一般认为光催化剂固定后比表面积减小，其催化效率有所降低）。两者的相同点是，都需要实现反应物、催化剂与入射光的充分接触，这可以通过改善反应器中光的分布和提高催化剂的比表面积的方法来实现。气固流化床光催化反应器的研究进展

2 气固相光催化反应器的研究现状
半导体多相光催化反应的Z早研究可追溯到1972年日本科学家Fujihims和Honda次发现在近紫外光（380nm波长的光）的作用下，金红石型TiO2单晶电能使水在常温常压下连续分解为氢气和氧气。其在环保中的应用则始于加拿大科学家John H. Catey等次将TiO2光催化应用于剧毒降解的研究。气固相光催化氧化技术至今未能工业化的一个Z主要原因是光反应器的缺乏。目前，开发结构简单、反应效率高的新型光反应器已成为气固相光催化技术的一个重要研究方向。

光化学反应仪CY品牌系列主要用于研究气相或液相介质、固定或流动体系、紫外光或模拟可见光照、以及反应容器是否负载光催化剂等条件下的光化学反应。具有提供分析反应产物和自由基的样品，测定反应动力学常数，测定**产率等功能，广泛应用化学合成、环境保护以及生命科学等研究领域。
    目前，各种干扰在各类工业现场中均存在，所以仪表及控制系统的可靠性直接影响到现代化工业生产装置安全、稳定运行，系统的抗干扰能力是关系到整个系统可靠运行的关键。随着DCS、现场总线技术的应用，被控对象和被测信号往往分布在各个不同的地方，并且他们与控制站之间也有相当长的距离，因此，信号线和控制线均可能是长线。其次，现场往往有许多强电设备，它们的启动和工作将对测控系统产生强烈的影响。同时来自空间的辐射干扰、系统外引线干扰等问题尤为**。因此，除有用信号外，由于各种原因必然会有一些与被测信号无关的电流或电压存在，这种无关的电流或电压通称“干扰（噪声）”。在测量过程中，这些干扰若不能很好地处理，那它将歪曲测量结果，严重时甚至使仪表或计算机不能工作。大量实践说明，抗干扰性能是各种电子测量装置的一个很重要的问题，尤其是DCS、现场总线技术的广泛应用和迅速发展，有效地排除和抑制各种干扰，已成为必需探讨和解决的迫切问题，因为干扰不仅能造成逻辑混乱，使系统测量和控制失灵，以致降低产品的质量，甚至使生产设备损坏，造成事故。因此，抗干扰技术在仪表测控系统的设计、制造、安装和日常维修中都必需给予足够的重视。

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