mos管优势
1.可应用于放大。由于场效应管放大器的输入阻抗很高,因此耦合电容可以容量较小,不必使用电解电容器。
2.很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换。常用于多级放大器的输入级作阻抗变换。
3.可以用作可变电阻。
4.可以方便地用作恒流源。
5.可以用作电子开关。
6.在电路设计上的灵活性大。栅偏压可正可负可零,三管只能在正向偏置下工作,电子管只能在负偏压下工作。另外输入阻抗高,可以减轻信号源负载,易于跟前级匹配。
晶体管性:N Channel
漏电流, Id 大值:100mA
电压, Vds 大:30V
开态电阻, Rds(on):8ohm
电压 @ Rds测量:4V
电压, Vgs 高:20V
功耗:200mW
工作温度范围:-55°C to +150°C
封装类型:SOT-323
封装类型:SOT-323
晶体管类型:Small Signal
电压 Vgs @ Rds on 测量:4V
电压, Vds 典型值:30V
电流, Id 连续:10mA
表面安装器件:表面安装
阈值电压, Vgs th 典型值:1.5V
MOS管的工作原理(以N沟道增强型MOS场效应管)它是利用VGS来控制“感应电荷”的多少,以改变由这些“感应电荷”形成的导电沟道的状况,然后达到控制漏电流的目的。在制造管子时,通过工艺使绝缘层中出现大量正离子,故在交界面的另一侧能感应出较多的负电荷,这些负电荷把高渗杂质的N区接通,形成了导电沟道,即使在VGS=0时也有较大的漏电流ID。当栅电压改变时,沟道内被感应的电荷量也改变,导电沟道的宽窄也随之而变,因而漏电流ID随着栅电压的变化而变化。
按沟道材料型和绝缘栅型各分N沟道和P沟道两种;按导电方式:MOS管又分耗尽型与增强型,所以MOS场效应晶体管分为N沟耗尽型和增强型;P沟耗尽型和增强型类:N沟道消耗型、N沟道增强型、P沟道消耗型、 P沟道增强型。
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