上海金属蒸镀设备 苏州方昇光电供应

真空蒸镀工艺一般包括基片表面清洁、镀膜前的准备、蒸镀、取件、镀后处理、检测、成品等步骤。(1)基片表面清洁。真空室内壁、基片架等表面的油污、锈迹、残余镀料等在真空中易蒸发，直接影响膜层的纯度和结合力。镀前必须清沽干净。(2)镀前准备。镀膜室抽真空到合适的真空度，对基片和镀膜材料进行预处理。加热基片，其目的是去除水分和增强膜基结合力。在高真空下加热基片，能够使基片的表面吸附的气体脱附。然后经真空泵抽气排出真空室，有利于提高镀膜室真空度，上海金属蒸镀设备、膜层纯度和膜基结合力。然后达到一定真空度后．先对蒸发源通以较低功率的电，进行膜料的预热或者预熔，为防止蒸发到基板上，用挡板遮盖住蒸发源及源物质，然后输入较大功率的电，将镀膜材料迅速加热到蒸发温度，蒸镀时再移开挡板。(3)蒸镀。在蒸镀阶段要选择合适的基片温度、镀料蒸发温度外，上海金属蒸镀设备，沉积气压是一个很重要的参数。沉积气压即镀膜室的真空度高低，决定了蒸镀空间气体分子运动的平均自由程和一定蒸发距离下的蒸气与残余气体原子及蒸气原子之间的碰撞次数。(4)取件，上海金属蒸镀设备。膜层厚度达到要求以后，用挡板盖住蒸发源并停止加热，但不要马上导入空气。真空镀膜机若有灰尘，将会影响真空镀膜的效果和质量。上海金属蒸镀设备

真空镀膜机扩散泵维修与保养：扩散泵是真空镀膜机的主要部件，为机器能运作在良好状态，平时对真空镀膜机扩散泵的维护和保养非常重要。1、扩散泵工作过程中冷却水必须保证畅通，停止加热后必须保证泵工作液已完全冷却后方可关闭冷却水。2、扩散泵停止工作时，泵内应保持真空状态，以免泵油劣化。3、被抽气体应是干燥、无腐蚀、无灰尘的气体。4、扩散泵如暂时不用，保管期间应该保持真空状态，以免泵油污染和各零件腐蚀并将冷却水套入的剩水吹净。保持场地的室温应在10-40摄氏度之间。上海金属蒸镀设备真空镀膜机对环境的要求一般包括真空设备对实验室（或车间）温度、空气和其他周围环境中颗粒物的要求。

真空镀膜机镀膜技术在工业中的应用：采用真空镀膜技术代替传统的电镀技术，不仅可以节省大量的薄膜材料，降低能源消耗，而且可以消除湿法镀膜对环境的污染。因此，国外已采用真空镀膜工艺代替电镀工艺。在冶金工业中，对钢和带钢添加渗铝保护层是很常见的。在机械制造中，真空镀膜技术改变了一定的加工工艺，节省了宝贵的原材料，如飞机涡轮发动机叶片没有昂贵的高温金属制造，而是使用廉价的材料，成型后再采用真空镀膜的方法在叶片表面涂上耐高温、耐腐蚀的保护层。例如，在汽车制造行业，使用塑料制品的金属化零件代替各种金属零件，这样不仅减轻了汽车的重量，而且节省了燃料的消耗。在金属刀具上添加TiN硬膜可使刀具寿命提高3~6倍，从而节省大量高速钢。塑料薄膜采用真空镀膜和镀铝等金属薄膜的方法，然后染色，可用于工业装饰薄膜。

真空镀膜机在塑料表面镀铝有哪些优点?真空镀膜机是塑料表面蒸发镀铝的专门的设备。成膜速度快，成膜性强，色泽鲜艳，不易污染。电镀设备可获得纯度高、膜厚均匀、致密、无废液和废水，可防止环境污染。是进行大规模生产的理想设备。真空镀膜机市场应用广，主要应用于汽车反光网、工艺品、首饰、鞋帽、挂钟、灯具、装饰等行业。主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备组成。真空制备的镀层能防止镀层材料和镀层零件的表面污染，消除空间碰撞，提高镀层的细度，制备出具有单一化合物特殊功能的镀层。为了提高涂层厚度的均匀性，采用行星机构或行星运动形式等旋转运动设备的真空室具有良好的涂膜均匀性、良好的涂层台阶覆盖性能、较大的承载能力，并能充分利用有用空间。这是一种常见的运动形式，排气系统通常由机械泵、分散泵、管路和阀门组成。真空镀膜设备使用的源材料要符合纯度要求。

真空镀膜机的真空涂层技术起步时间不长，**上在上世纪六十年代才出现将CVD（化学气相沉积）技术应用于硬质合金刀具上。由于该技术需在高温下进行（工艺温度**1000ºC），涂层种类单一，局限性很大，起初并未得到推广。到了上世纪七十年代末，开始出现PVD（物理的气相沉积）技术，之后在短短的二、三十年间真空镀膜机的PVD涂层技术得到迅猛发展，究其原因：（1）其在真空密封的腔体内成膜，几乎无任何环境污染问题，有利于环保；（2）其能得到光亮、华贵的表面，在颜色上，成熟的有七彩色、银色、透明色、金黄色、黑色、以及由金黄色到黑色之间的任何一种颜色，能够满足装饰性的各种需要；（3）可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层，应用在工装、模具上面，可以使寿命成倍提高，较好地实现了低成本、收益高的效果；（4）此外，PVD涂层技术具有低温、高能两个特点，几乎可以在任何基材上成膜，因此，应用范围十分广阔，其发展神速也就不足为奇。真空镀膜机是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在工件或基片表面析出的过程。蒸镀机哪里有卖

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真空镀膜机基本技术要求如下：1、真空镀膜机中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合GB/T6070的规定。2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口处安装电场屏蔽装置。3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱。4、设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的情况以及其他关键部位。5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体的位置。6、合理布置加热装置，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的设计应使工件膜层均匀。8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置，维持稳定。上海金属蒸镀设备

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