供应中频磁控溅射电源

中频磁控溅射电源

●用途： 可适用于PVD、CVD技术以金属、半导体靶材制备高密度、高硬度、高亮度、高透明度的单质、化合物膜层 ●特点： 1.采用**的逆变技术和IGBT功率开关器件 2.采用PWM控制技术、恒流特性好、电源控制精确 3.自动恒流输出，不随气压变化，提高沉积速率，工艺重复性好 4.克服靶中毒，抑制靶材弧光放电及抗短路功能，内置电子电抗，具有较佳的负载匹配能力 5.LED数码电流、电压显示、清晰直观 6.轻巧、高效、节能。同等功率比可控硅电源节约电能40%以上 7.模块化设计、全系列产品风冷长期稳定性好，可N+1备份、**安全生产 8.可根据用户量身定做设计制造特种电源系统   ●主要技术项目： 型号TypePLD—10kwPLD—20kwPLD—30kwPLD—40kw 项目Item输入电源电压频率（V、Hz）三相四线AC380+NAC380+NAC380+NAC380+N+15%,50/60+15%,50/60+15%,50/60+15%,50/60输出电流调节范围（A）10203040稳流精度≤1%≤1%≤1%≤1%额定输出电压（ACV）1000100010001000负载持续率（%）85858585重量（KG）40404080外形尺寸（mm）575(D)×480(W)×250(H)绝缘等级BBBB效率（%）90909090功率因数COSΦ0.930.930.930.93外壳防护等级Ip21Ip21Ip21Ip21工作模式恒压、恒流、恒功率可任意选择，常规恒流输出外部接口本系列产品，均可设微机式PLC控制

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