对于高抛光粉来讲,氧化的品位越高,抛光能力越大,使用寿命也增加,稀土抛光粉生产工艺,特别是硬质玻璃长时间循环抛光时(石英、光学镜头等),以使用高品位的抛光粉为宜。低抛光粉一般含有50%左右的CeO2,稀土抛光粉厂家电话,其余50%为La2O3?SO3,稀土抛光粉用什么做的,Nd2O3?SO3,Pr6O11?SO3等碱性盐或LaOF、NdOF、PrOF等碱性氟化物,此类抛光粉特点是成本低及初始抛光能力与高抛光粉比几乎没有两样,因而广泛用于平板玻璃、显像管玻璃、眼镜片等的玻璃抛光,但使用寿命难免要比高抛光粉低。
主要指标:产品中w(REO)=99%,w(CeO2)=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm(或粒度为200目~300目),晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉()。
1.4.2中系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%)为原料,以化学方法预处理得稀土盐溶液,加入中间体(沉淀剂)使转化成w(CeO2)=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为:
原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级系稀土抛光粉产品。主要设备:氧化槽,优溶槽,酸溶槽,沉淀槽,过滤机,煅烧炉,细磨筛分机及包装机。
国外于60年前开始生产稀土抛光粉,湛江稀土抛光粉,二十世纪90年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种规格牌号。
目前,国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家(年生产能力为200吨以上者)。其中,法国罗地亚公司年生产能力为2200多吨。是目前大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量能力达1500吨以上。
。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳矿、粗氯化和氯化稀土三种,工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。1968年,我国在上海跃龙化工厂研制成功稀土抛光粉。
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