原料→干法细磨→配料→混粉→焙烧→磨细筛分→低级系稀土抛光粉产品。主要设备:球磨机,混料机,焙烧炉,筛分机等。主要指标:产品中w(REO)≥95%,w(CeO2)≥50%;稀土回收率≥95%;产品粒度为1.5μm~2.5μm.该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。目前,国内生产的低级系稀土抛光粉的量,约占总产量的90%以上。
以稀土抛光粉中CeO2量来划分:
稀土抛光粉的主要成分是CeO2,据其CeO2量的高低可将抛光粉分为两大类:一类是CeO2含量高的**质优的高抛光粉,稀土抛光粉用什么做的,一般CeO2/TREO≥80%,另一类是CeO2含量低的廉价的低抛光粉,其含量在50%左右,或者**50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11组成。
以上原料中除种外,*2,稀土抛光粉作用,3,4种均含轻稀土(w(REO)≈98%),梅州稀土抛光粉,且以CeO2为主,稀土抛光粉生产工艺,w(CeO2)为48%~50%.我国具有丰富的资源,据测算,其工业储量约为1800万吨(以CeO2计),这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础,也是我国*有的一大优势,并可促进我国稀土工业继续高速发展。
1.4主要生产工艺及设备
1.4.1高系稀土抛光粉的生产
以稀土混合物分离后的氧化为原料,以物理化学方法加工成硬度大,粒度均匀、细小,呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为:原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→系稀土抛光粉产品。
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