黔西南反渗透纯水设备制造厂 黔西南实验室反渗透设备

工业纯水设备的稳定运行及使用寿命，与日常的运行管理息息相关，正确操作需注意以下事项。
1、反渗透膜的水解易造成反渗透装置的性能恶化，因此要严格控制水的PH值，给水PH值在3-11范围内。
2、如果给水的FI值**标，膜组件的表面会附着污垢，出现这种现象须进行清洗。
3、因注入的次氯酸钠量不足，造成给水中的游离氯不能测出时，工业纯水设备的膜组件会有黏泥，使压差增加，所以要严格控制进入膜组件的游离氯量，制止**过规定值导致膜氧化分解。
4、给水不能**过设计标准值，否则会造成膜组件提前劣化。另外，浓水的不得小于设计标准值，否则会使工业纯水设备的压力容器流动不均匀，由过分浓缩使膜组件析出污垢。
5、高压泵不可中断运转，否则装置容易故障。
工业纯水设备
6、夏天给水温度高，产水就多，减低操作压力的话，会导致产水水质下降。因此，建议操作压力保持，减少膜组件的数量便可。
7、冬季水温下降，为了制止反渗透装置停运时析出二氧化硅，应用低压给水置换反渗透装置内的水。
8、如果没有适当的压实，会减低工业纯水设备除盐率，因此压力要保持适当的裕度。
9、保安过滤器压差加快上升，是因为浑浊度的泄漏；出现压差加快下降的现象，是元件紧固螺丝松动，或是精密过滤器元件破损等原因造成的。
10、如果工业纯水设备和出口的压差**标，说明给水在设计值以上，或者是膜面受到污染。重新调整，或者更换膜元件便可。

详情介绍：
一、设备概述：
**纯水处理设备
**纯水应用领域：在制药和某些行业常需要纯净的蒸馏水，但传统蒸馏法制取蒸馏水存在能耗高、不稳定、不环保的缺陷，渐渐退出历史的舞台。取而代之的环保的CEDI技术。
水处理混床系统
一般处理工艺：反渗透+EDI+混床工艺替代传统纯蒸馏方法已经成为当今世界用水生产技术的主流。近年来代表制药用水制备工艺技术水平的连续电去离子技术(Continuous Electrodeionization CEDI)的出现，促使用水制备工艺摒弃伴生废酸、废碱污染的传统离子交换技术，令系统实现全自动计算机控制，连续生产，安全无污染。
反渗透纯净水设备--低成本、高质量。
二、EDI简介：
EDI即连续除盐技术（EDI，Electro deionization或CDI，Continuous Electrode ionization），是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下，分别透过阴阳离子交换膜而被去除的过程。这一过程中离子交换树脂是被电连续再生的，因此不需要使用酸和碱对之再生。这一新技术可以代替传统的离子交换装置，生产出电阻率达17 MΩ·cm的**纯水。
三、工作原理：
在一对阴阳离子交换膜之间充填混合离子交换树脂就形成了一个EDI单元。将一定数量的EDI单元罗列在一起，使阴离子交换膜和阳离子交换膜交替排列，并使用网状物将每个EDI单元隔开，形成浓水室。在给定的直流电压的推动下，在淡水室中，离子交换树脂中的阴阳离子分别在电场作用下向正负极迁移，并透过阴阳离子交换膜进入浓水室，同时给水中的离子被离子交换树脂吸附而占据由于离子电迁移而留下的空位。通过这样的过程，给水中的离子穿过离子交换膜进入到浓水室被去除而成为除根水。带负电荷的阴离子（例如OH-、Cl-）被正极（+）吸引而通过阴离子交换膜，进入到邻近的浓水室中。此后这些离子在继续向正极迁移中遇到邻近的阳离子交换膜，而阳离子交换不允许其通过，这些离子即被阻隔在浓水中。淡水流中的阳离子（例如Na+ 、H+）以类式的方式被阻隔在浓水中。在浓水中，透过阴阳膜的离子维持电中性。
四、应用领域：
**纯水经常用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业等。EDI纯水也可以作为制药蒸馏水、发电厂的锅炉补给水，以及其它应用**纯水。

贵州反渗透设备，反渗透设备的工作原理
反渗透设备采用较、较节能、较有效的膜分离技术.反渗透设备的原理是通过溶液的渗透压力将其他物质从水中分离出来,使其他物质不能通过半渗透膜进行渗透.反渗透膜的膜孔尺寸很小,因此反渗透设备可以有效去除水中的溶解盐、胶体、微生物和**化合物.反渗透设备可生产纯水和高纯水,满足不**业和不同需求的用户需求。
当纯水和盐水被理想的半透膜分离时,理想的半透膜只允许水通过盐.此时,膜的纯水端通过半透膜自发地流入咸水端.这种现象叫做渗透.如果在膜的盐水一侧施加压力,水的自发流动就会被抑制并减慢。
当压力作用于某一数值时,水通过膜的净流动为零.这种压力称为渗透压力.当膜的盐水一侧的压力大于渗透压力时,水的流动就会逆转.这时,盐水中的水就会流入纯水的一侧.上述现象是反渗透处理水的基本原理。
反渗透设备的应用范围:空间水、纯水、蒸馏水、蒸馏水、饮用水的制备;制药和电子工业用水的早期准备;化工过程的浓缩、分离、净化和配水;锅炉给水淡化;海水、苦咸水淡化;造纸、电镀、印染等行业.和污水处理。

水质：出水水质>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、**大规模集成电路需用大量的高纯水、**纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。  **纯水设备,**纯水设备,硅片**纯水设备
    半导体（semiconductor），指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是常用的元素半导体；化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化镓、磷化镓等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等；氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝、镓磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、**半导体等。
光电材料生产、加工、清洗；液晶显示屏、离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、**大规模集成电路需用大量的高纯水、**纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对**纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了较加严格的要求。
半导体**纯水设备，**纯水设备，**纯水处理设备，我们公司生产反渗透＋EDI**纯水设备，有多年的生产经验，做过各行业的水处理设备，水处理方面我们有丰富的经验。
半导体**纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(传统工艺) 
  　 2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(工艺) 
　　3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→*二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥17MΩ.CM）(工艺) 
　　4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥15MΩ.CM）(工艺) 
　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
水质标准：
半导体**纯水设备，**纯水设备，**纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我国电子工业**纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体**纯水设备，**纯水设备，**纯水处理设备的应用领域：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　 **纯水设备,**纯水设备,硅片**纯水设备
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水；
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；
集成电路生产中高纯水清洗硅片；
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
高品质显像管、萤光粉生产；
汽车、家电表面抛光处理。

贵州鑫沣源环境科技有限公司。是一家集各种污水治理工程、固体废弃物处理工程、废气、自来水厂建设工程、环境综合治理工程（小河流、湖泊、水库、池塘等水体修复，中水回用工程、环评、科研、水资水保、土地复垦、环境工程设计，环保咨询、技术服务、环保产品研发、制造、销售以及环境工程施工、安装调试与运营管理于一体，具有规模的综合性环保企业。