上海轩仪仪器设备有限公司为深圳市方瑞科技有限公司在上海设立的办事处,致力于真空等离子清洗机和常压等离子表面处理设备(plasma)销售和的科技企业,公司密切注视国内外等离子技术发展趋势,结合国内生产的实际情况,在行业内形成了特的优势。
等离子体在HDI板盲孔清洗时一般分为三步处理,阶段用高纯的N2产生等离子体,同时预热印制板,使高分子材料处于一定的活化态;第二阶段以O2、CF4为原始气体,混合后产生O、F等离子体,与丙烯酸、PI、FR4、玻璃纤维等反应,达到去钻污的目的;第三阶段采用O2为原始气体,生成的等离子体与反应余物使孔壁清洁。
上海轩仪仪器设备有限公司提供的大气与真空型等离子设备区别:温度。这是一个重点,大气等离子清洗机虽然处理材料几秒之后的温度在60°-75°左右。当然功率,接触时间,处理的高度都会对温度有所影响。如果在喷出“火焰”的情况下长时间对着某一个点不运动进行处理很容易对表面产生灼烧。而真空型等离子清洗机就没那么复杂,按电源频率划分,40KHz和13.56MHz为例:通常情况下材料放入腔体内工作,频率为40KHz,一般温度为65°以下,处理时间不长的话,材料表面温度都会跟室温一致。频率为13.56MHz的就会更低,通常情况是30°以下。
上海轩仪仪器设备有限公司提供的等离子体清洗的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。 等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
等离子清洗的清洗过程从原理为两个过程,过程1为:有机物的去除,首先是利用等离子的原理将气体分子激活,然后利用O,O3与有机物进行反应,达到将有机物排除的目的; 过程2为:表面的活化,首先是利用等离子的原理将气体分子激活,然后利用O,O3含氧官能团的表面活化作用,来改善材料的粘着性和湿润性能。上海轩仪仪器设备有限公司提供的等离子清洗机,对各种材料表面进行涂覆、镀等操作、增强粘合力、键合力、同时去除材料表面的有机污染物等,都有很好的效果。
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