多功能磁控溅射镀膜系统主要用途:用于制备各种金属膜、半导体膜、介质膜、磁控膜、光学膜、**导膜、传感膜以及各种需求的功能薄膜。
真空镀膜机的工作原理如下:
在镀膜领域,镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的一个重要因素。因此,当评价某薄膜样品的性能时,需要检测该薄膜样品不同厚度下的性能。对于真空镀膜的情形,这往往需要进行多次试样的制备。而这样多次制备样品存在两个问题:首先,不同次生长的样品,仪器的状态不同,以至于影响薄膜样品性能的因素可能不仅仅是厚度;其次,真空镀膜实验装取样品需要重新进行真空的获得,非常耗时。增加了生产和检测的成本。
因此,提供一种多功能磁控溅射镀膜系统,本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成,可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀,并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸发镀膜与手套箱组合,实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作,使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中,消除**大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响,**了高性能、大面积**光电器件和电路的制备。
真空镀膜机详细镀膜方法如下:
1、检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在"关"位置。
2、打开总电源开关,真空镀膜设备送电。
3、低压阀拉出。开充气阀,听不到气流声后,启动升钟罩阀,钟罩升起。
4、安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位,保证无任何杂质污物。
5、落下钟罩。
6、启动真空镀膜设备抽真空机械泵。
7、开复合真空计电源。
1)左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。
2)低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至110mA时,左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。
8、当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时,低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
9、真空镀膜设备开通冷却水,启动扩散泵,加热40min。
10、低压阀拉出。重复一次⑦动作程序:左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至6.7Pa时,开高压阀。
真空镀膜机工作的环境要求:
真空镀膜设备要在真空条件下工作,因此该设备要满足真空对环境的要求。真空对环境的要求,一般包括真空设备对所处实验室(或车间)的温度、空气中的微粒等周围环境的要求,和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。
这两个方面是有密切联系的。周围环境的好坏直接影响真空设备的正常使用;而真空设备的真空室或装入里面的零件是否清洗,又直接影响设备的性能。如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘,在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气,要达到预期的真空度很难的。众所周,油封式机械泵不宜抽除对金属有腐蚀性、对真空油其反应的以含有颗粒尘埃的气体。水蒸气为可凝性气体,当大量抽除可凝性气体时,对泵油的污染会较加严重,结果使泵的极限真空下降,破坏了泵的抽气性能。
工业环境中的粉尘是以粉状体、眼无题、粉尘来区分的。粉状体是粉末或固体颗粒的或分散状态的物质。所谓粉末是指微小的固体颗粒的,而颗粒是指能够一个一个计数的微小物质。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。物质无论是固体还是液体,凡是呈颗粒状态均可统称为尘粒。以尘粒直径的大小来确定空气清洁度的标准,从而定制出洁净室的等级。不仅适合于有洁净要求的工业部门,也适合于真空对洁净环境的要求。
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