正溴环保清洗剂 NPB清洗剂 油污清洗剂

为实现技术服务的本地化，上海锐一公司是由业内的团队组建，在业内属于良好的以技术支持为主的公司。
上海锐一公司历经十几年的发展，经历了CFC制冷剂替代以及清洗剂替代的整个过程。不断推出新的产品、技术，并锤炼出了一支技术服务团队。
正溴使用蒸汽脱脂挑战是需要安全和可持续的溶剂。 常用的溶剂n-溴在接触时对工人构成安全风险，法规禁止使用 AK-225 等氟氯烃。许多制造商现在正在寻找对员工和环境安全的解决方案，以牺牲性能为代价。

正溴储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜**过37℃。保持容器密封。应与氧化剂、碱类、活性金属粉末等分开存放，切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。

沸点 （°C ） 70°C 
特重力 = 25°C （H O=1） 1.31 
闪点 TCC （°C） 无
基础材料符合 ASTM-D 6368  是
可燃性极限 （vol. %）基于 n-Propyl 溴化物 3.8 - 9.5 % 
蒸汽压力  25°C （毫米汞柱） 134 
蒸汽密度 （空气 1） 4.2 蒸发率 （丁基盐 = 1） 4.7 
比热值 25°C （cal/g） 0.26 
电介质强度 （交流伏特） 21，000 
外观透明  无悬浮物质
KB值 清洗力 ：125

ENASOLV 系列电子清洗剂具有挥发速度快，清洗力强，不可燃，味道小，符合环保要求的清洗剂产品。可以清洗电子产品助焊剂，灰尘以及油脂类污渍。三个型号分别如下：
ENASOLV 2004是一款以适于减少健康因素和日益增长的环境法规而开发的高清洗力氟化清洗剂。可以用于浸泡洗、标准蒸汽去脂工艺、以及有高浸润性能要求和快干的清洗工艺。
ENASOLV 2004在蒸汽去脂工艺设备上，可以直接替代正溴类清洗剂、HCFC141B、225等过渡品，以及高成本的HFC、HFE类清洗剂。
ENASOLV 2004可以去除电路印刷组装中助焊剂、焊锡膏、离子残留等，也可以去除精密金属加工中的机加工油脂、颗粒、粘结剂等，以及光学玻璃的颗粒、液晶、油脂等的清洗。
ENASOLV 2004安全适用于金属工件，例如铝、铜、铜合金、、镍、碳钢、不锈钢、锌等工件。也适于多数塑料、橡胶件等非金属工件。
上海锐一公司历经十几年的发展，经历了CFC制冷剂替代以及清洗剂替代的整个过程。不断推出新的产品、技术，并锤炼出了一支技术服务团队。

上海锐一环保科技有限公司主营清洗剂产品：HCFC-141B清洗剂/发泡剂  硅油/油稀释剂清洗剂  正  141B环保替代产品  HFC-365mfc五  雅保ABZOL CG CEG  PS系列 雅保正 Enasolv 365az系列低VOCs清洗剂  HFO-1233ZD清洗剂 HFO-1336mzz（Z） Amolea AS-300  AE-3000 AK-225清洗剂 HFE-347 HFE-7100 HFE-7200 HFE-7300 HFE-7500 全碳溶剂 全聚醚 全环醚 全溶剂。高低温制冷剂:4A   R245fa 0A 4A 7C R508B 科慕新型制冷剂：34YF R513A R514A R452A R452B R449A