珠海桶装纯净水设备价格 高纯水机**纯水设备

纯净水设备、高纯水设备和超纯水设备的技术参数
产水量
根据需求订制（0.5-300吨/时）
原水源
自来水或地下水（电导率小于400us/cm）
产水水质
电导率小于0.056us/cm(电阻率≥18MΩ/cm)
设备功率
5KW-800KW
运行状态
自动运行、定时反洗
反洗频率
随进水水质而变化（1～3天）
化学清洗
随膜材质及膜污染情况而定
产品特点
人机对话、运行稳定、水质可靠
进水要求：
以下是保证 EDI 正常运行的条件。为了使系统运行效果更佳，系统设计时应适当提高这些条件。
★给水：RO 纯水，一般水的电导率为 4-30us/cm。
★PH：5.0-8.0(在此 PH 条件下，水硬度不能太高)
★温度：5-35℃
★进水压力：为 4kg/cm2(60psi)，小为 1.5kg/cm2(25psi)。
注意：组件压力损失取决于流量和水温。
EDI 组件标准配置：
★出水压力：浓水和电极水的出口压力必须低于产品的出口压力。
★硬度（以 CaCO3 计）：为 1.0ppm，建议采用 0.1ppm。
★有机物：为 0.05ppm (TOC)。
★氧化剂：为 0.05ppm（CL2），0.02ppm（03）建议两者都没有。
★变价金属：为 0.01 ppm (Fe)。
★二氧化硅：50-150ppb。
★二氧化碳 CO2 的总量：二氧化碳含量和 PH 值将明显影响产品水电阻率。在大于10ppm 时，一般应在 EDI 设备前安装脱气装置。

反渗透设备、水处理设备的处理方法
一、沉淀法：以大容积、低流速的自然沉淀方法对水预进行处理，如沉淀池。
二、混凝法：利用铁、铝、高分子等混凝剂，与水中的杂质通过絮凝和架桥作用生成大颗粒沉淀物，再通过其它设备，予以去除。
三、过滤法：将被 处理的水，流经装有特殊过滤材料的装置，截留水中杂质，予以去除。
四、软化法：采用化学药剂或阳离子交换树脂方法，使水中的钙、镁、铁离子去除。
五、消毒法：加入药剂或使用紫外线、臭氧等方法，消除水中的微生物、等。

高纯水设备、超纯水设备简介
电去离子Electrodeionization，简称EDI，又称连续电解除盐技术，它科学地将电渗析技术和离子交换技术融为一体，通过阴、阳离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，在电场的作用下实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生，因此E水过程不需酸、碱化学药品再生即可连续制取高品质超纯水。
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

纯净水设备、高纯水设备、反渗透设备的优点
1、占地空间小，省略了混床和再生装置。
2、产水连续稳定，出水质量高，而混床在树脂临近失效时水质会变差。
3、运行费用低，再生只耗电，不用酸碱，节省材料费用。
4、环保效益显着，增加了操作的安全性。
5、不需要酸碱化学试剂来再生(绿色环保)。
6、与同类进口产品比，能耗下降30%左右，节约运行费用。
7、EDI在线再生，无需加盐系统。
8、出水水质稳定一致。
9、容易实现整体式的膜块排列。
10、重量轻，结构紧凑。
纯净水设备、高纯水设备的应用领域
1、电厂化学水处理；
2、电子、半导体、精密机械行业超纯水；
3、制药工业工艺用水；
4、精细化工、精尖学科用水；
5、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；
6、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
7、其他行业所需的超纯水制备。

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