在直饮水设备中,由于处理水量较少,对于水质标准要求较高,所以为适应这一要求通常采用膜过滤技术。目前,各种膜技术都有其明确适用范围,因此在实际工艺设计过程中,必须考虑各地水源水质特点以及用户对饮用水具体要求来选用。同时还有考虑膜处理要求,在设计过程中还要加设预处理或者保安过滤器,以及前置水箱,蓄水箱和提升泵等中间设备及消毒设备。
除以上所述之外,还有活性炭的应用。活性炭过滤与膜过滤相比,具有很多优点,如保养维护简单、造价低、耗能少等,因此在管道直饮水净化中常常与膜过滤结合作为纳滤前预处理,或者与超滤组合,以发挥其优势。通过研究表明,对于以自来水为水源的管道直饮水系统中,采用活性炭与微滤和超滤两级过滤工艺,并充分发挥二者净化优势是能够满足直饮水水质要求的。只有在一些城市水源污染严重,水源中盐分较高的水质深度净化中,才建议使用纳滤。除情况外,不建议使用反渗透技术。
根据广西水处理公司以析并结合国内管道直饮水工程经验,总结出超滤膜或微滤膜分离+臭氧氧化+活性炭吸附和生物降解+臭氧(或紫外线)杀菌消毒处理工艺。这是对不同水处理机理的综合运用,既发挥了膜过滤优势,又利用活性炭氧化分解可生化**物的功能,从而实现经济、有效、实用目的。
反渗透装置是将原水经过精细过滤器、颗粒活性碳过滤器、压缩活性碳过滤器等,再通过泵加压,利用孔径为1/10000μm(相当于大肠大小的1/6000,的1/300)的反渗透膜(RO膜),使较高浓度的水变为低浓度水,同时将工业污染物、重金属、、等大量混入水中的杂质全部隔离,从而达到饮用规定的理化指标及卫生标准,产出至清至纯的水,是人体及时补充优质水份的选择。由于RO反渗透技术生产的水纯净度是目前人类掌握的一切制水技术中高的,所以人们称这种产水机器为反渗透纯净水机。
反渗透装置应用膜分离技术,能有效地去除水中的带电离子、无机物、胶体微粒、及**物质等。是高纯水制备、苦咸水脱盐和废水处理工艺中的设备。广泛用于电子、、食品、轻纺、化工、发电等领域。
反渗透技术因具有的优越性而得到日益广泛的应用。反渗透净水设备的清洗问题可能使许多技术力量不强的用户遭受损失,所以要做好反渗透装置的管理,就可以避免出现严重的问题。
水质:出水水质>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、**大规模集成电路需用大量的高纯水、**纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。 **纯水设备,**纯水设备,硅片**纯水设备
半导体(semiconductor),指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多,按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是常用的元素半导体;化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:砷化镓、磷化镓等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化镉、硫化锌等;氧化物:锰、铬、铁、铜的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体:镓铝砷、镓砷磷等。除上述晶态半导体外,还有非晶态的玻璃半导体、**半导体等。
光电材料生产、加工、清洗;液晶显示屏、离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、**大规模集成电路需用大量的高纯水、**纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对**纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了较加严格的要求。
半导体**纯水设备,**纯水设备,**纯水处理设备,我们公司专业生产反渗透+EDI**纯水设备,有多年的生产经验,做过各行业的水处理设备,水处理方面我们有丰富的经验。
半导体**纯水设备制备工艺:
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→*二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(工艺)
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)
水质标准:
半导体**纯水设备,**纯水设备,**纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业**纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体**纯水设备,**纯水设备,**纯水处理设备的应用领域:
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗; **纯水设备,**纯水设备,硅片**纯水设备
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水;
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水;
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液;
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片;
集成电路生产中高纯水清洗硅片;
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水;
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗;
高品质显像管、萤光粉生产;
汽车、家电表面抛光处理。
**纯水设备在设计上采用成熟、可靠、的制水工艺,将双级反渗透、EDI和混床除盐相结合,保证经过设备处理后的水质电阻率得到18兆欧以上。**纯水设备采用PLC触摸屏控制,自动化程度、稳定性能高,与同类设备相比,具有较高的性价比和可靠性。
二、**纯水设备功用
(1)砂滤器,功用:初步去除水中泥沙、杂质、悬浮物以及其它微粒等降低水的浊度。
(2)碳滤器,功用:利用碳的吸附原理吸附水中异色、异味、余氯等。
(3)软水器,功用:置换水中钙镁离子,降低水的硬度。
(4)反渗透主机,功用:主要是通过反渗透过滤,达到生产纯水之目的。
(5)EDI系统(EDI系统优势),功用:EDI系统又称连续电除盐技术,通过阳阴离子膜对阳阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用,在电场的作用下实现水中离子的定向迁移,从而达到水的深度净化除盐,并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生。
(6)核能混床,功用:进一步提升水质,保证出水符合标准。
三、**纯水设备设计优势
(1)系统采用水处理技术双级RO+EDI+混床模块化设计,严格按设计标准,确保水质稳定,长效运行。
(2)通过技术设计,确保系统短时停机及长时间停机时水质保持稳定。
(3)通过技术保证终端出水恒压、水质稳定。
(4)通过完善的技术,限度的提高系统回收率,降低能耗和运行成本。
(5)采用ESPA2**低压膜,运行稳定,能耗低。
(6)采用PH调节系统以确保水温下降或原水PH值偏低时EDI出水水质。
(7)配备专门的有化学清洗系统,可定期对反渗透进行化学清洗,以确保系统稳定运行。
(8)配备浓水置换技术,防止膜系统受到微生物污染。
(9)EDI及后段出水采用**纯水管道,限度的保证出水水质。
(10)EDI水箱采用氮封装置,以确保终端水质稳定及延长核能混床寿命。
(11)采用PLC加触摸屏控制系统,并采用进口电气原件,操作方便,运行稳定。
(12)主题材料全部采用行业内****品牌,保质保量,并按配置设计。
贵州鑫沣源环境科技有限公司。是一家集各种污水治理工程、固体废弃物处理工程、废气、自来水厂建设工程、环境综合治理工程(小河流、湖泊、水库、池塘等水体修复,中水回用工程、环评、科研、水资水保、土地复垦、环境工程设计,环保咨询、技术服务、环保产品研发、制造、销售以及环境工程施工、安装调试与运营管理于一体,具有规模的综合性环保企业。