• 二氧化硅靶材SiO2一氧化硅靶材SiO磁控溅射靶材

    二氧化硅靶材SiO2一氧化硅靶材SiO磁控溅射靶材

  • 2021-10-29 15:21 171
  • 产品价格:面议
  • 发货地址:北京市通州区永乐店镇包装说明:真空包装
  • 产品数量:不限产品规格:SiO2500806
  • 信息编号:52233264公司编号:4231066
  • 李大为 销售
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    产品描述
    科研实验**二氧化硅靶材SiO2一氧化硅靶材SiO磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
    产品介绍
          二氧化硅(SiO2)常温下为固体,不溶于水,是酸性氧化物,不跟一般酸反应,但溶于氢氟酸及热浓磷酸,能和熔融碱类起作用。自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种。结晶二氧化硅因晶体结构不同,分为石英、鳞石英和方石英三种。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光导纤维、电子工业的重要部件、光学仪器、工艺品和耐火材料的原料,是科学研究的重要材料。
    产品参数
    中文名 二氧化硅       化学式 SiO2          熔点 1650±50℃
    分子量 60.084          密度2.2 g/cm3      沸 点 2230℃
    纯度 **
    产品介绍
          一氧化硅(SiO)常温常压下为黑棕色至黄土色无定形粉末,难溶于水,能溶于稀氢氟酸和硝酸的混酸中并放出四氟化硅,熔点:1702°C,沸点:1880°C,密度2.13g/cm³,一氧化硅不太稳定,在空气中会氧化成二氧化硅膜而钝化,仅在**1200℃才稳定;在氧气中燃烧,和水反应生成氢气。一氧化硅微粉末因较富有活性,可作为精细陶瓷合成原料,
    如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料;用作光学玻璃和半导体材料的制备;在真空中将其蒸发,涂在光学仪器用的金属反射镜面上,作为保护膜;半导体材料的制备。
    产品参数
    中文名 一氧化硅         化学式 SiO         分子量 44.08
    熔点 1702℃               沸点 1880℃       密 度 2.13g/cm3
    纯度 **


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