二氧化硅靶材SiO2一氧化硅靶材SiO磁控溅射靶材

科研实验**二氧化硅靶材SiO2一氧化硅靶材SiO磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
       二氧化硅（SiO2）常温下为固体，不溶于水，是酸性氧化物，不跟一般酸反应，。自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种。结晶二氧化硅因晶体结构不同，分为石英、鳞石英和方石英三种。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光导纤维、电子工业的重要部件、光学仪器、工艺品和耐火材料的原料，是科学研究的重要材料。
产品参数
中文名 二氧化硅       化学式 SiO2          熔点 1650±50℃
分子量 60.084          密度2.2 g/cm3      沸 点 2230℃
纯度 **
产品介绍
        一氧化硅(SiO)常温常压下为黑棕色至黄土色无定形粉末，熔点：1702°C，沸点：1880°C，密度2.13g/cm³，一氧化硅不太稳定，在空气中会氧化成二氧化硅膜而钝化，仅在**1200℃才稳定；在氧气中燃烧，和水反应生成氢气。一氧化硅微粉末因较富有活性，可作为精细陶瓷合成原料，如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料；用作光学玻璃和半导体材料的制备；在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜面上，作为保护膜；半导体材料的制备。
产品参数
中文名 一氧化硅         化学式 SiO         分子量 44.08
熔点 1702℃               沸点 1880℃       密 度 2.13g/cm3
纯度 **
支持合金靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后**！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库