制备Ta2O5薄膜的方法有很多,常见的有化学气相沉积法[2-3]、DC或RF溅射法[4-6]、电子束蒸发法[7-8]、溶胶凝胶法[9-12]等.与传统的物理化学方法相比较,溶胶凝胶法不需要真空条件和太高的温度,可在任意形状的基片上成膜,制备过程容易控制,体系的化学均匀性好,而且通过自组装和模板作用可用于合成具有高比表面积的介孔材料
Ta2O5(氧化钽)薄膜的光谱透过波段为0.3~10um,是可见光到近红外波段重要的高折射率材料之一。
离子束溅射Ta2O5薄膜的研究主要集中在离子束、烘烤温度和工作气体流量比等参数的优化以及热处理对薄膜性能的影响上,并获得了离子束溅射制备Ta2O5薄膜的折射率、消光系数、应力、化学计量比、微结构和光学带隙等特性。
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