如何处理真空镀膜的灰尘呢
1、设备使用的源材料要符合必要的纯度要求。
2、设备样品取出后要注意放置环境的清洁问题。
3、真空镀膜一段时间后,真空室内壁必须要清洁处理。
4、真空镀膜清洗衬底材料,必须要做到严格合乎工艺要求。
5、真空镀膜适当的增加环境的湿度,有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。
6、工作人员在操作时需要戴手套、脚套等,要有的服装。
由于灰尘对镀膜效果会产生比较大的影响,因此为了避免在真空镀膜设备中留下灰尘,应该在使用中注意以上几点来尽量避免,除此也要注意经常清洗,避免灰尘越积越多。
真空镀膜机详细镀膜方法如下:
1、检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在"关"位置。
2、打开总电源开关,真空镀膜设备送电。
3、低压阀拉出。开充气阀,听不到气流声后,启动升钟罩阀,钟罩升起。
4、安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位,保证无任何杂质污物。
5、落下钟罩。
6、启动真空镀膜设备抽真空机械泵。
7、开复合真空计电源。
1)左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。
2)低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至110mA时,左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。
8、当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时,低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
9、真空镀膜设备开通冷却水,启动扩散泵,加热40min。
10、低压阀拉出。重复一次⑦动作程序:左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至6.7Pa时,开高压阀。
真空镀膜机的工作原理如下:
在镀膜领域,镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的一个重要因素。因此,当评价某薄膜样品的性能时,需要检测该薄膜样品不同厚度下的性能。对于真空镀膜的情形,这往往需要进行多次试样的制备。而这样多次制备样品存在两个问题:首先,不同次生长的样品,仪器的状态不同,以至于影响薄膜样品性能的因素可能不仅仅是厚度;其次,真空镀膜实验装取样品需要重新进行真空的获得,非常耗时。增加了生产和检测的成本。
因此,提供一种多功能磁控溅射镀膜系统,本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成,可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀,并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸发镀膜与手套箱组合,实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作,使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中,消除**大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响,**了高性能、大面积**光电器件和电路的制备。
多功能磁控溅射镀膜系统主要用途:用于制备各种金属膜、半导体膜、介质膜、磁控膜、光学膜、**导膜、传感膜以及各种需求的功能薄膜。
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