小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD 是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。 真空蒸发镀膜包括以下基本过程: (1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。 (2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。 (3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远 **基板温度远**蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。 技术参数 控制方式 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 加热方式 数字式功率调整器 镀膜功能 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 功率 ≤1200W 输出电压电流 电压≤12V 电流≤120A 真空度 机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤10^-3Pa 挡板类型 电控 真空腔室 石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm 样品台 可旋转φ62 (可安装φ50基底) 样品台转速 8转/分钟 样品蒸发源调节距离 70-140mm 蒸发温度调节 ≤1800℃ 支持蒸发坩埚类型 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口 KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 可选配扩展 机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa) 数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa) 分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa)