上海购买化学镀金设备 江苏芯梦半导体设备供应

在进行晶圆化学镀过程时，有一些重要的注意事项需要考虑，以确保镀涂的质量和一致性，以及操作的安全性。以下是一些晶圆化学镀的注意事项：安全操作：化学镀液通常包含有害物质和腐蚀性成分，因此在进行操作之前必须了解和遵守相关的安全操作规程。佩戴个人防护装备，如手套、护目镜和防护服，确保适当的通风，并严格遵守安全操作指南。表面准备：晶圆表面准备是获得良好镀涂结果的关键。在进行镀涂之前，确保晶圆表面干净，没有污垢、油脂和氧化物。使用适当的清洗和预处理步骤，如溶液浸泡、超声波清洗和离子束清洗等，可确保表面准备良好。镀液控制：镀液的成分和条件对于获得高质量的镀层至关重要。确保镀液的浓度、温度、pH值和搅拌速度等参数在所需范围内，并进行定期检测和调整。镀液的稳定性和一致性对于获得均匀的镀层至关重要。芯梦化学镀设备操作简单，维护方便，降低你的使用成本！上海购买化学镀金设备

化学镀设备参数：

晶圆厚度:>50微米；

泰科环:2~3毫米；

晶圆沉积:晶圆F面:70~80%晶圆B面:**；

沉积金属:镍/把/金厚度:3/03/0.03~0.05um；

整机尺寸：约9300mm(L)×2350mm(W)×2700mm(H)；

操作台面高度：950±50mm；

兼容12inch与8inchwafer；

全自动运行，foupin-foupout；

dryin-dryout；

不锈钢SUS316骨架，包覆NPP，结实且耐腐蚀*工控机+PLC控制，系统稳定；

Windows操作系统，简单方便；

具备自动添加功能；

应用领域：

微电子产品封装，TSV，RD 上海购买化学镀金设备芯梦半导体为您量身打造专业清洗解决方案！

晶圆电镀工艺是在晶圆制造过程中常用的一种金属镀涂工艺，用于在晶圆表面形成金属层，以实现特定的功能和性能要求。下面是晶圆电镀工艺的一般步骤和关键要点：表面准备：在进行电镀之前，需要对晶圆表面进行准备处理。这通常包括清洗、去除氧化物和其他杂质的步骤。清洗可使用化学溶液、超声波清洗或离子束清洗等方法，确保晶圆表面干净，并提供良好的镀液接触性。预镀处理：在进行电镀之前，有时需要进行预镀处理，以提高镀层的附着性和均匀性。预镀处理可以包括表面活化、表面活性剂处理、化学预镀等步骤，根据所需的镀层材料和特定要求进行选择。电镀过程：晶圆电镀通常在电解池中进行。电解池中含有金属盐溶液，其中金属离子会在电流的作用下被还原并沉积在晶圆表面形成金属镀层。电流的大小和时间控制了镀层的厚度和均匀性。镀液的成分和条件（如温度、pH值）也需要根据所需的镀层材料进行优化和控制。后处理和清洗：完成电镀后，晶圆需要进行后处理和清洗步骤。后处理可以包括烘干、退火、固化等，以提高镀层的性能和稳定性。清洗步骤用于去除残留的镀液和其他杂质，确保表面干净，并准备好进行后续工艺步骤。检验和测试。

自21年4月交付，截至目前已累计交付多台，服务得到了客户充分的认可，2022年Q1订单表现旺盛，订单排程已经覆盖到22年Q4，据我们不完全统计预估，芯梦半导体化学镀（ENEPIG）设备中国市场已经排名**。化学镀设备（ENEPIG）应用于晶圆级封装（CSP/COPPERPILLAR），IGBT/MOSFET晶圆制造等领域。芯梦半导体推出的产品具有：相较于传统的金属沉积方式，化学镀不需要掩模版，不需要复杂的工艺流程，方式较加简单灵活。适用于不同的PAD材质，包括：Cu/Al/AlSi/AlSiCu/Pt/Au/Ag/GaN/Ge/GaAs等相较于传统的沉积方式，化学镀设备的产出非常之高设备能够实现多手臂的互动，精密控制制程过程中的流量、温度、循环、PH等参数。XM中国的半导体湿法工艺设备提供商芯梦半导体持续致力于赋能客户**，为集成电路制造、**晶圆级封装制造及大硅片制造领域的湿法制造环节设备提供综合解决方案。江苏芯梦期待与您共同解决化学镀问题！

镍钯金化学镀设备是用于在晶圆或其他基板上进行镍、钯和金镀层的设备。这种设备通常包括以下主要组成部分：镀液槽：镀液槽是用于容纳镀液的容器，通常由耐腐蚀材料制成，如聚丙烯或聚氯乙烯。镀液槽内部通常配有搅拌装置，以确保镀液的均匀性和稳定性。电源和电极：镍钯金化学镀涉及电化学过程，因此需要提供适当的电源和电极。电源用于提供电流，控制电流密度和镀液中金属离子的沉积速率。电极则用于将电流导入镀液和晶圆之间，以实现金属离子的沉积。温控系统：镀液的温度对于镀层的质量和均匀性非常重要。因此，镍钯金化学镀设备通常配备了温控系统，可以精确控制镀液的温度，以适应不同的镀层要求。气体和液体供应系统：在镀液过程中，可能需要供应气体和液体以调节镀液的成分和pH值，或者用于清洗和后处理步骤。这些供应系统包括气体和液体输送管道、压力控制装置和喷嘴等。芯梦化学镀设备为您带来不同的体验！上海购买化学镀金设备

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ENEPIG是一种用于表面处理的镀层技术，它是指Electroless Nickel Electroless Palladium Immersion Gold（无电镀镍-无电镀钯-浸金）的缩写。这种镀层技术主要用于印制电路板（PCB）和其他电子元器件的表面处理。

ENEPIG表面处理的优点：

●减少由于钯的存在而导致的质量问题，例如黑垫。

●优良的可焊性和高回流焊阶段。

●提供高度可靠的引线接合能力。

●支持高密度过孔。

●满足小型化的标准。

●适用于薄型PCB。

ENEPIG表面处理的缺点：

●比ENIG较贵。

●较厚的钯层会降低SMT焊接的效率。

●较长的润湿时间。

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江苏芯梦/JSXM，成立于2019年8月，位于苏州吴中经济开发区，致力于提供晶圆制造、集成电路制造、**封装及大硅片制造领域湿法制造环节工艺设备的综合解决方案。

江苏芯梦成立三年来高速发展，现有员工人数近300人，其中40%为技术研发人员，近3年营收复合增长率****。江苏芯梦始终坚持创新，不断攀登半导体湿法装备技术高峰，*的国内首台全自动ENEPIG化学镀设备目前市场占有率国内；*的全自动FOUP清洗设备成功打破国外垄断，并已进入国内半导体企业应用。

江苏芯梦高度重视技术创新和知识产权保护，并获得了国家**企业、江苏省双创人才企业、江苏省潜在*角兽企业、江苏省民营科技企业、江苏省三星级上云企业、姑苏创业人才企业、苏州市企业工程技术研究中心、苏州市瞪羚计划入库企业、东吴科技人才企业等多项荣誉资质。