晶圆槽式清洗设备是一种用于半导体行业的设备,用于对晶圆进行清洗和表面处理。以下是晶圆槽式清洗设备的一些特点:搅拌和超声波:为了加强清洗效果,晶圆槽式清洗设备通常配备了搅拌和超声波功能。搅拌可以使清洗液在槽内均匀分布,提高清洗效率。超声波则可以通过波动产生的微小气泡来去除晶圆表面的污染物。气体供应系统:在清洗过程中,可能需要供应气体以调节清洗液的成分和pH值,或者用于干燥晶圆。晶圆槽式清洗设备通常配备了气体供应系统,包括气体输送管道、压力控制装置和喷嘴等。高纯水供应:清洗过程中,需要使用高纯度的去离子水(DI水)对晶圆进行漂洗,以去除清洗液残留和离子污染。晶圆槽式清洗设备通常配备了高纯水供应系统,以确保提供足够的高纯水进行漂洗。可定制性:晶圆槽式清洗设备通常具有一定的可定制性,可以根据客户的需求进行特定的设计和配置。例如,可以根据晶圆尺寸、清洗液类型和工艺要求等进行定制。芯梦槽式清洗设备采用智能化管理系统,助你实现生产智能化!天津附近槽式清洗设备厂家电话
晶圆尺寸:φ200mm・φ300mm
晶圆材质:硅(碳化硅等化合物半导体需要另外讨论规格参数。)
处理槽及组成:根据生产线配置另外讨论规格参数
HEPA或ULPA:数量由配置决定
机器人:菲科半导体提供:垂直轴(AC伺服驱动)+行走轴(AC伺服驱动)+卡盘机构(气动)
药液:O₃・HF・NCW・KOH・NH₄OH・H₂O₂・HCL・EDTA・HCL・Citric Acid・DIW
药液温度:可对应100℃
药液槽:摆锤摆动・旋转・超声波
冲洗槽:鼓泡、QDR、电阻率计安装LD&ULD:离子发生器(可选)
干燥:热水提取・红外・旋转干燥・Marangoni
程序单元:纯水、氮气(用于空气传感器)、洁净空气、电源、真空(用于传输)
选配设备:臭氧发生设备 江苏半导体槽式清洗设备按需定制芯梦槽式清洗设备配备快速调整功能,适应不同使用场景!
晶圆槽式清洗设备是一种用于半导体行业的设备,用于对晶圆进行清洗和表面处理。以下是晶圆槽式清洗设备的一些特点:多槽设计:晶圆槽式清洗设备通常采用多槽设计,每个槽都有特定的功能和处理步骤。例如,清洗槽、漂洗槽、去离子水槽等。多槽设计可以实现多个步骤的连续处理,提高清洗效率和质量。自动化操作:晶圆槽式清洗设备通常具有高度自动化的操作系统,可以进行自动加载、清洗、漂洗、干燥和卸载等操作。自动化操作可以提高生产效率、减少人工操作和减少人为误差。温度控制:清洗过程中,温度对于清洗效果和晶圆品质至关重要。晶圆槽式清洗设备通常配备了温度控制系统,可以准确控制清洗液的温度,以满足不同清洗要求。
槽式清洗设备的工艺参数可以根据不同的设备和应用而有所差异,以下是一些常见的槽式清洗设备工艺参数:
搅拌速度:清洗槽中的搅拌速度用于促使清洗液的对流和均匀分布。适当的搅拌速度可以提高清洗效果,确保清洗液充分接触晶圆表面。搅拌速度通常可以在设备的控制系统中进行设置和调整。
超声波功率:一些槽式清洗设备配备了超声波功能,用于加强清洗效果。超声波功率指的是超声波的强度,通常以功率密度(W/cm²)来表示。超声波功率的大小可以根据晶圆的清洗要求进行设置和调整。 芯梦槽式清洗设备具有高度定制化功能,满足你不同生产需求!
晶圆槽式清洗设备是在半导体和电子制造领域中使用的设备,用于对晶圆(也称为硅片)进行清洗和表面处理,以确保其质量和可靠性。该设备采用多槽设计,每个槽都有不同的功能和处理步骤,以满足不同的清洗要求。
晶圆槽式清洗设备具有高度自动化、多槽设计和灵活性,可根据不同的清洗要求进行定制。它们广泛应用于半导体制造、集成电路生产、光伏产业等领域,以确保晶圆的质量和表面纯净度,满足品质和高性能产品的要求。
总的来说,晶圆槽式清洗设备具有多槽设计、自动化操作、温度控制、搅拌和超声波功能、气体供应系统、高纯水供应和可定制性等特点,以满足半导体行业对晶圆清洗的高要求。
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晶圆槽式清洗设备是一种用于半导体晶圆制造过程中的清洗设备。它通过将晶圆放置在花篮中,然后使用机械手将其依次通过不同的化学试剂槽进行清洗。槽内装有酸碱等化学液,一次可以同时清洗多个花篮(25片或50片晶圆)。
槽式清洗机的主要构成部分包括耐腐蚀机架、酸槽、水槽、干燥槽、控制单元、排风单元以及气体和液体管路单元等。它的清洗效率较高,成本较低,但清洗的晶圆之间可能存在交叉污染和前批次污染后批次的问题。
晶圆槽式清洗设备在晶圆制造工艺中起着重要的作用。晶圆制造工艺通常包括颗粒去除清洗、刻蚀后清洗、预扩散清洗、金属离子去除清洗和薄膜去除清洗等步骤。槽式清洗机能够满足这些不同步骤的清洗需求,特别是在**工艺中,如高温磷酸清洗,槽式清洗设备是可用的清洗方式。 天津附近槽式清洗设备厂家电话
江苏芯梦/JSXM,成立于2019年8月,位于苏州吴中经济开发区,致力于提供晶圆制造、集成电路制造、**封装及大硅片制造领域湿法制造环节工艺设备的综合解决方案。 江苏芯梦成立三年来高速发展,现有员工人数近300人,其中40%为技术研发人员,近3年营收复合增长率****。江苏芯梦始终坚持创新,不断攀登半导体湿法装备技术高峰,*的国内首台全自动ENEPIG化学镀设备目前市场占有率国内;*的全自动FOUP清洗设备成功打破国外垄断,并已进入国内半导体企业应用。 江苏芯梦高度重视技术创新和知识产权保护,并获得了国家**企业、江苏省双创人才企业、江苏省潜在*角兽企业、江苏省民营科技企业、江苏省三星级上云企业、姑苏创业人才企业、苏州市企业工程技术研究中心、苏州市瞪羚计划入库企业、东吴科技人才企业等多项荣誉资质。