成都真空设备厂家 半导体制程PVD沉积台 电阻蒸发 电子束蒸发 离子源辅助清洗 辅助沉积 可定制

●本装置使用电阻蒸发、电子束蒸发和离子源辅助清洗、辅助沉积和原位刻蚀进行复合，用于制备特种薄膜，薄膜具有均匀性、附着力、抗损伤、低颗粒物污染等特点，是半导体制程中关键工序的**装备，其技术长期被美国、日本等国技术成员所垄断，属于国内卡脖子装备，也是制约国内半导体领域自主可控的关键设备，该设备的技术突破和产业化对国内半导体产业发展具有积极意义。

成都汉普升科技有限公司，成立于2015年11月16日，致力于电真空、核级装备、人工晶体材料及薄膜制备设备的技术提升，在服务领域深耕细作，具有较深的技术沉积。
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