ICP光谱仪安装要注意哪些细节方面
只有正确的安装ICP光谱仪设备才能使设备的使用寿命加长,那我们在安装ICP光谱仪时要注意什么呢?今天为大家简单的介绍一下。
1、要有良好的用电环境,ICP在点火的瞬间,功率还是很大的,所以电源要不**10千瓦,实验室要单供电,特别是企业,不要和其它大功率的生产设备共用电源,因为其它大功率设备启动时会对仪器测试造成比较大的影响,甚至损坏仪器。电压要相对稳定,频率也要稳定,可以用示波器去监测,要有良好的正弦波形,不能有脉冲或方波。好要有稳压电源,向厂家咨讯购买何种型号的稳压电源。不是每一种稳压电源都是可以使用的。我也曾遇到过电的问题,企业有可控硅生产线,结果整个电网频率不稳,仪器怎么调也不稳,后来单拉了一条线,一切搞定。
2、ICP光谱仪在使用中要有良好的通风,所以至少要在实验室留下安装通风的位置。也不要在没有厂家安装图纸的情况下安装好通风,到时候仪器来了有可能位置高度均不合适,哪样就得重新安装通风。如果想提前安装,可以询问厂家,一般厂家都会提供一个详细的安装图纸,可以按图纸安装。
3、一般的ICP光谱仪是需要地线的,可能有的厂家对地线还有一定的要求,这时候就要询问厂家,是否需要单的地线。
Plasma 3000型和Plasma 2000型电感耦合等离子体**光谱仪测定工业硅中杂质元素含量
关键词
Plasma 3000,Plasma 2000,工业硅,耐氢氟酸进样系统
国家产品标准GB/T2881-2014《工业硅》中规定,检测工业硅中杂质元素采用电感耦合等离子体**光谱仪测定。本实验参照标准GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法*四部分:杂质元素含量测定 电感耦合等离子体原子**光谱法》测定工业硅中铝、铬、钙、硼、铜、铁、镁、镍、锰、磷、钠、钛的元素含量。对工业硅样品进行对比测试,检测结果与客户化学法基本一致。
仪器特点
Plasma 3000型和Plasma 2000型电感耦合等离子体**光谱仪(钢研纳克检测技术股份有限公司)是使用方便、操作简单、测试快速的全谱ICP-OES分析仪,具有良好的分析精度和稳定性。
Plasma3000
Ø 固态射频发生器,**高稳定光源;
Ø 大面积背照式CCD芯片,宽动态范围;
Ø 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,体积小巧;
Ø 多元素同时分析,全谱瞬态直读。
Ø 多种进样系统,可选择性好;
Ø 垂直炬管,双向观测,检出限较加理想;
Plasma2000
Ø 固态射频发生器,**高稳定光源;
Ø 大面积背照式CCD芯片,宽动态范围;
Ø 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,体积小巧;
Ø 多元素同时分析,全谱瞬态直读;
Ø 多种进样系统,可选择性好;
Ø 垂直炬管水平观测,耐盐性较佳。
样品前处理
1. Al、Ca、Cr、Cu、Fe、Mg、Ni、Mn、P、Na、Ti含量测定:
Ø 称取1g样品,放置于250mL聚四氟乙烯烧杯,用少许水清洗杯壁并润湿样品;
Ø 分次加入15mL~20mL氢氟酸,待反应停止后加滴加硝酸至样品完全溶解,然后加入3mL,加热冒烟,待白烟冒尽,取下冷却。
Ø 加入5mL盐酸和1mL硝酸,用少许水洗杯壁,加热使残渣完全溶解,冷却至室温,转移至50mL塑料容量瓶中,用水稀释至刻度,摇匀;
Ø 随同做空白实验。
2. B含量测定
Ø 称取1g样品,放置于250mL聚四氟乙烯烧杯,用少许水清洗杯壁并润湿样品;
Ø 分次加入15mL~20mL氢氟酸,待反应停止后,滴加硝酸至样品完全溶解,过量1mL,待反应停止后,加热至近干(控制温度**140℃),取下冷却;
Ø 加入5mL盐酸和1mL硝酸低温溶解残渣(温度**80℃),待样品完全溶解后,冷却至室温,转移至50mL塑料容量瓶中,用水稀释至刻度,摇匀。
Ø 随同做空白实验。
注:
1) 工业硅中有些元素含量,使用试剂和水需要高纯,器皿清洁;
2) 标准溶液配置时注意介质干扰,建议P、Na、B单配置;
3) 测量时,采用耐氢氟酸进样系统;
4) 样品溶解时,氢氟酸用量较大,注意器皿采用聚四氟乙烯和塑料;
标准曲线配置
标准溶液配置时,可以先配置100μg/mL混合标准溶液,配置时按下表1加入体积数配置曲线。
表1 标准曲线配置
注:
1) 标准溶液配置时注意介质干扰,建议P、Na、B单配置,浓度梯度同上表;
2) 配置曲线时,酸度和样品保持一致;
元素分析谱线
实验考虑各待测元素谱线之间的干扰及基体干扰,并选择合适的扣背景位置,经实验,本文选择分析谱线如下表2所示。
表2 各元素分析谱线及线性系数
测试结果
1. 标准样品测试结果、精密度与回收率
按照方法,测试了标准样品金属硅FjyJ0401,同时加入100微克做回收率实验,实验结果如表3所示。回收率在98.75%~106.93%,结果令人满意。
表3 实验结果、精密度和回收率(n=11)
2. 样品比对实验
采用Plasma2000型和Plasma3000型仪器测量客户考察样品,与客户化学法比对,结果如表4所示。通过比对,仪器测定值与化学法基本一致。
表4 结果比对
注:“-” 客户未提供化学法检测数据
结论
使用Plasma3000和Plasma2000能够很好的解决工业硅中杂质元素分析问题,完全满足国家标准GB/T2881-2014《工业硅》和GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法*四部分:杂质元素含量测定 电感耦合等离子体原子**光谱法》要求。
钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分光系统
Plasma 3000ICP光谱仪采用径向观测与轴向观测设计,适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,使用CaF2棱镜,提高光路传输效率。 优化的光学设计,采用非球面光学元件,改善成像质量,提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术,缩短光室充气时间,提高紫外光谱灵敏度及稳定性,开机即可测量。 包围式立体控温系统,**光学系统长期稳定无漂移。
光源
固态射频发生器,稳定,体积小巧,效率高,匹配速度快,钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪能适应各种复杂基体样品及挥发性的测试,均能获得优异的长期稳定性。 垂直炬管的设计,具有较好的样品耐受性,减少了清洁需求,降低了备用炬管的消耗。 冷锥消除尾焰技术,地降低自吸效应和电离干扰,从而获得较宽的动态线性范围和较 低的背景,保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式,待机时降低输出功率,减小气体流量,仅维持等离子体运行,节约使用成本。
简洁的炬管安装定位设计,快速定位,的位置重现。 实时仪器运行参数,高性能CAN工业现场总线,**通讯可靠。
进样系统
简洁的炬管安装设计,自动定位炬管位置,的位置重现。钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪配备系列经过优化的进样系统,可用于、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸(HF) 等样品的测试。
使用可拆卸式或一体式炬管,易于维护,转换快速,使用*。Plasma 3000 ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、气和载气的流量,**测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵,提升样品导入稳定性。
检测器
大面积背照式CCD检测器,全谱段响应,高紫外**化效率,抗饱和溢出,具有较宽的动态范 围和较快的信号处理速度。 一次曝光,完成全谱光谱信号的采集读取,从而获得较为快速、准确的分析结果。Plasma 3000 ICP光谱仪具有同类产品中靶面尺寸,**像素,单像素面积24μm X 24μm,半导体制冷,制冷温 度 低,具有较低的噪声和较好的稳定性。
软件系统
人性化的界面设计,流畅易懂,简便易用,针对分析应用优化的软件系统,无须复杂的方法开发, 即可快速开展分析操作。
丰富的谱线库,智能提示潜在干扰元素,帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置,直观的测试结果显示。
安全防护
电磁屏蔽,减少电磁 连锁门保护,避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗
应用领域
Plasma 1000 单道扫描ICP光谱仪可用于地质、冶金、稀土及磁材料、环境、医药卫生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工业、农业、食品商检、水质等各领域及学科的样品分析。可以快速、准确地检测从微量到常量约70种元素。
售后服务**
售后服务出自生产线、技术力量无可比拟
多年的**合作经验打造了完善的售后服务体系
自主知识产权产品使仪器的运行成本特别是备件成本大幅降低
钢研纳克检测技术股份有限公司(代码:300797)是*企业中国钢研科技集团有限公司(钢铁研究总院)的二级单位,从事分析仪器装备和分析检测技术的研究、开发和应用的**创新型企业。目前公司提供的主要服务或产品包括分析检测仪器、第三方检测服务、标准物质/标准样品、能力验证服务等检测相关产品与延伸服务。钢研纳克不仅是中国分析仪器设备制造的行业企业,也是国内元素检测领域仪器种类、综合实力的仪器装备和分析测试技术的研究机构之一。公司及子公司牵头制修订7项、参与制修订20余项、制定170余项及行业标准;研制家级标准物质/标准样品300多种。力争成为测试仪器装备领域有影响力的**竞争参与者、成为具有**影响力的材料表征评价认证的和综合解决方案的提供者。钢研纳仪器产品主要包含:电感耦合等离子体质谱仪,ICPMS,ICP光谱仪,国产ICP,国产ICP-MS,ICP光谱分析仪,电感耦合等离子体光谱仪,电感耦合等离子体**光谱仪,食品重金属检测仪、土壤重金属检测仪、波长色散X射线荧光光谱仪、金属原位分析仪、脉冲熔融-飞行时间质谱仪、试验机、环保监测设备等技术水平的检测装备,其中多款仪器*(属国内台套)。产品质量稳定,检测数据可靠,累计市场占有率排名国内行业**,部分产品成为同类产品的业界,牵头制定了相关仪器和检测标准。钢研纳克检测技术股份有限公司是国内早使用和开发ICP光谱仪和ICP-MS的科研单位之一,依托钢铁材料测试中心,培育了一批ICP光谱仪和ICP-MS应用和仪器。ICP光谱仪产品标准GB/T 36244-2018和ICP-MS仪器计量检定规程GB/T 34826-2017的起草单位。重大科学仪器专项《ICP痕量分析仪器的研制》牵头单位,*ICP系列分析仪器的发展。拥有30多年ICP方法开发经验,懂ICP应用的国产ICP&ICP-MS制造商。免费培训,解决客户应用方法的难题,让您ICP光谱仪和ICP-MS用的!,上市公司,品质之选!. 联系人:文经理 电话 手机.