镀膜机工艺在集成电路制造中的运用,镀膜机晶体管路中的保护层(SiO2、Si3N4)、电极管线(多晶硅、铝、铜及其合金)等多是选用CVD技能、PVCD技能、真空蒸腾金属技能、磁控溅射技能和射频溅射技能。可见气相堆积术制备集成电路的**技能之一。
镀膜机工艺在装饰品方面的运用跟着经济的开展和生活水平的进步,大家喜爱将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室表里装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五光十色。
真空镀膜设备应用十分广泛,如今在我们的生活中到处可见,是**的一项技术。但是真空镀膜设备在使用一段时间后,表面就会留下灰尘影响真空镀膜的整体效果。
真空镀膜机详细镀膜方法如下:
1、检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在"关"位置。
2、打开总电源开关,真空镀膜设备送电。
3、低压阀拉出。开充气阀,听不到气流声后,启动升钟罩阀,钟罩升起。
4、安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位,保证无任何杂质污物。
5、落下钟罩。
6、启动真空镀膜设备抽真空机械泵。
7、开复合真空计电源。
1)左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。
2)低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至110mA时,左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。
8、当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时,低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
9、真空镀膜设备开通冷却水,启动扩散泵,加热40min。
10、低压阀拉出。重复一次⑦动作程序:左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至6.7Pa时,开高压阀。
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