氧化镓是一种新兴的功率半导体材料,其带隙大于硅,氮化镓和碳化硅,但在成为电力电子产品的主要参与者之前,仍需要开展更多的研发和推进工作
五氧化二铌:化学式Nb2O5,分子量265.81,白色晶体,熔点1460℃,相对密度4.47,相对介电常数35-50,带隙3.4eV。受热至400℃颜色变黄,溶于氢氟酸、热硫酸及碱,不溶于水是稳定的氧化物。其水合物的化学式为Nb2O5· xH2O,受热分解,可溶于、浓盐酸、氢氟酸及强碱, 不溶于水及氨水,在空气中灼烧金属铌或由铌酸脱水可得。
该材料在各种应用中的灵活性源于其广泛的可能导电性 - 由于其电场强度,从高导电性到非常绝缘性和高击穿电压能力。因此,氧化镓可以达到较端程度。大面积的氧化镓晶圆也可以从熔体中生长,从而降低了制造成本
LOSFIA在日本成功地了使用实现常关MOSFET 的可能性 。这是一项具有开创性的工作,因为生产常关MOSFET一直被认为挑战性。FLOSFIA计划制造刚玉(corundum,一种晶体结构)α-Ga 2 O 3功率器件,GaO 系列,从TO-220中的肖特基势垒二极管(SBD)开始,然后是MOSFET。
公司是生产高**属材料,蒸发镀膜材料以及溅射材的应用开发的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以拥有多名中技术人员和化应用实验室,具有很强的蒸发材料开发能力。公司先后研发的蒸发材料、溅射材系列产品广泛应用到国内外众多电子、太阳能企业当中,以较高的性价比,成功发替代了国外进口产品,颇受用户好。