KT-S2DQX-C--中频电源小型滚筒离子清洗机

plasma离子清洗机射频电源，

等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的较大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。





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plasma离子清洗机射频电源


供电电源

AC220V（AC110V可选)

工作电流

整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)

射频电源功率

150W

射频频率

13.56MHz

频率偏移量

＜0.2MHz

特性阻抗

50欧姆，手动匹配

耦合方式

电容耦合

真空度

≤50Pa

腔体材质

高纯石英

腔体容积

2L(内径110MMX深度220MM)

观察窗内径

Φ50

气体流量

0—50ml/min（其他量程可选）

过程控制

过程手动控制

清洗时间

手动开关

开盖方式

铰链侧开式法兰

外形尺寸

450x450x360mm

重量

23Kg

真空室温度

小于65°C

冷却方式

强制风冷

标配

KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。