无尘洁净室主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触之大气的洁净度日及温湿度,使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造,此空间我们称之为无尘洁净室。按照**惯例,无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也是说所谓无尘并非**没有一点灰尘,而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微,但是对于光学构造而言,哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的影响,所以在光学构造产品的生产上,无尘是必然的要求。
洁净室气流组织考虑原则编辑 播报
(1) 当产品要求洁净度为100级时,选用层流流型;当产品要求洁净度为1000~100000级时,选用乱流流型。
(2) 减少涡流,避免把工作区以外的污染物带入工作区。
(3) 为了防止灰尘的二次飞扬,气流速度不能过大。乱流洁净室的回风口不应设在工作区的上部。宜在地板上或侧墙下部均匀布置回风口。
(4) 工作区的气流应均匀,流速必须满足工艺和卫生的要求;洁净气流应尽可能把工作部位围罩起来,使污染物在扩散之前便流向回风口。
(5) 工作设备布置时要留有一定的间隔,为送、回风口的布置和气流的通畅创造条件:气流组织设计时要考虑高大设备对气流组织的影响。
(6) 洁净工作台不宜布置在层流洁净室内。当布置在乱流洁净室时,宜将其置于工作区气流的上风侧,以提高室内的空气洁净度。
(7) 洁净室内有通风柜时,宜置于工作区气流的下风侧,以减少对室内的污染。
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