深圳市模具镜面抛光加工厂 模具镜面抛光材料

电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴反应的影响，效果较好。 电化学抛光过程分为两步： （1）宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra＞1μm。 （2）微光平整 阳化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。
在塑料模具加工中所说的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同，严格来说，模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有很高的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何度也有很高的标准。表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可。镜面加工的标准分为：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由于电解抛光、流体抛光等方法很难控制零件的几何度，而化学抛光、超声波抛光、磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求，所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主。

精抛主要使用研磨膏。若用抛光布轮混合研磨粉或研磨膏进行研磨的话，则通常的研磨顺序是9μm(#1800)~ 6μm(#3000)~3μm(#8000)。9μm的研磨膏和抛光布轮可用来去除#1200和#1500号砂纸留下的发状磨痕。接着用粘毡和研磨膏进行抛光，顺序为1μm(#14000)~ 1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。 精度要求在1μm以上(包括1μm)的抛光工艺在模具加工车间中一个清洁的抛光室内即可进行。若进行较加精密的抛光则必需一个洁净的空间。灰尘、烟雾，头皮屑和口水沫都有可能报废数个小时工作后得到的高精密抛光表面。

抛光是镀层表面或零件表面—道工序，其目的是要消除在磨光工序后还残留在表面上的细微磨痕。抛光面应该是平整、光亮、无痕、无浮雕、无坑、无金属扰乱层的似镜面状态的表面。经过磨光与抛光后的磨面变化。

不锈钢抛光液用途：清除不锈钢（螺丝、挂件、小五金、装饰品等）冷轧、冲压过程中产生的氧化皮，光亮美观。
磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。